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受到电场力的吸引，接下来氮的阳离子会向飞向阴极即靶材附近，而电子则会飞向引弧针，金属镀钛厂家公司，但是由于离子的远远大于电子，因此在受到相同电场力的情况下，镀钛厂家公司，电子的移动距离会大于阳离子的移动距离，于是当电子到达阳极时，离子将不会到达阴极靶面，而是在距离靶面较近的位置处富集，形成正离子堆积层，阳离子与阴极靶面的距离很小，可达微米级。根据e=u/d，可知此时空间中的电场强度---，这种极强的电场会把靶材中的电子“扯”出来。

靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下，金属靶材的靶功率密度允许值为10~30w/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度，即可确定靶电流密度.

降低ar压强有利于提高镀膜速率，还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的ar压强通常选为0.5pa，气体放电的阻抗随ar压强的降低而升高.磁控溅射时，单县镀钛厂家公司，可以适当调节ar压强，

离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得---镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层得多。因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，处理镀钛厂家公司，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。

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